 |
|
|
インラインガスモニター
IR-150S/L
使用環境・用途・特長
MOCVD用液体・固体材料ラインの濃度管理に最適 MFCなみの取扱汎用性と価格を実現しました。
使用環境
GaAsデバイスは、携帯電話向けを中心に需要が拡大し、衛星放送、衛星通信ガス、地上基地局間通信システム、高速ネットワーク、さらには、ミリ波帯域での用途も拡大が見込まれています。
光デバイスもCD/MD、CD-ROM、DVD用半導体レーサ等の用途が急速に広がっています。化合物半導体素子製造においては、MOCVDやMBEによるエピタキシャル成長が一般的となっています。
用途
MOCVDやMOVPEなどでは、TMAI、TMGa、TMIn、DEZnなどの固体や液体材料をシリンダー内で加温気化し、ユースポイントへ供給しています。
シリンダー内で加温された材料ガスは、シリンダーの温度や圧力、また材料の残量によって、濃度が変化する可能性があります。
膜厚変動は、素子特性に大きな影響をもたらしますが、それを極力少なくするためには、材料濃度の安定も重要なファクタであり、濃度をモニタリングすることが、必要となります。
インラインガスモニタの必要性
半導体製造プロセスにおける液体材料の増加
↓
液体材料ガスのキャリアガス流量の制御による直接気化供給、バブリング供給では蒸気圧変動 により供給濃度の変動がおこる
↓
発生ガスのリアルタイム濃度モニターの必要性
濃度フィードバックコントロールの要望
特長
In-situにてリアルタイムに濃度測定が可能です
コンパクトマウントフリーで設置スペースを選びません
抜群なコストパフォーマンスで生産ラインでの濃度管理に最適です。
|
|
